用一臺機器拋光和精加工尺寸達1.2米的自由曲面光學(xué)器件，達到高精度！
最新的MRF技術(shù)
擴展的尺寸能力
拋光孔徑尺寸達1200 mm
QED.NET軟件
EFMS（電子流體監(jiān)測系統(tǒng)）流體控制系統(tǒng)。
技術(shù)能力
拋光高達1200 mm x 1200 mm的平面球、非球面、柱面和自由曲面光學(xué)器件
多部件批量拋光軟件
4種不同的軸配置可用
可互換拋光頭
50 mm MRF砂輪可拋光小表面特征并減少邊緣效應(yīng)。
370 mm MRF車輪具有高材料去除率，可快速覆蓋大表面。
拋光墊可用于預(yù)拋光或拋光：
可變軌道和旋轉(zhuǎn)RPM
可變壓力
50mm和100mm拋光墊
Q22-1200
大規(guī)格
拋光孔徑尺寸達1200 mm
技術(shù)規(guī)范
工件
最大工件尺寸* 1200毫米
最大工件重量* 400 kg（包括透鏡架）
最大半角 30度
工件連接裝置** 機械（真空可選）
各軸*** X、Y、Z、A、B、C、Q、Zp
移動范圍***
（X） 1606毫米
（Y） 1016毫米
（Z，Z素） 740毫米
（B） B+/-32度
（C） C+/-35度
（Q，A） 連續(xù)或360度
定位精度***
（X，Y，Z） +/-0.0076毫米
（B，Q） +/-20弧秒
（D） +/-10弧秒
Q22-1200配置 3軸 4軸 5軸 6軸
坐標(biāo)軸 X,Y,Z X,Y,Z,C X,Y,Z,B,C X,Y,Z,B,C,Q
平面光學(xué)的MRF拋光950 x 1200 950 x 1200 12000 x 1200 1200 x 1200
平板光學(xué)墊拋光 950 x 1200 950 x 1200 950 x 1200 950 x 1200
“溫和”球體、非球面和自由光學(xué)的MRF拋光 950 x 1200
柱面、球面、非球面和自由曲面光學(xué)的MRF拋光 1200x1200, 1200x1200 1200x1200
平面、球面和非球面光學(xué)的襯墊拋光 1200 x 1200
咨詢電話：135 2207 9385
機器規(guī)格
機器占地面積 4.08 m寬x 3.72 m深
所需最小占地面積 5.56 m寬x 5.76 m深
機器安裝高度 3.67 m高
機器總重量 13636千克
最小門開度（寬x高） 3.69米x 2.97米
與電有關(guān)的 210 VAC，50/60 Hz，63A，3ph+N+PE（5線）
水**** 包括獨立冷卻器
壓縮空氣 87磅/平方英寸（6巴），3cfm（85?/min），干燥并過濾至10μm
電氣的部分：
與電有關(guān)的 210 VAC，50/60 Hz，63A，3ph+N+PE（5線）
水**** 包括獨立冷卻器
壓縮空氣 87磅/平方英寸（6巴），3cfm（85?/min），干燥并過濾至10μm
