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美國QED磁流變拋光機床MRF系列
2024-03-28 10:29:13

MRF? 拋光由 QED 獨家提供,靈活快速、可靠且準(zhǔn)確。

借助車間中的 MRF 機器,您可以將光學(xué)表面拋光至原始形狀、形狀和光潔度,無論對稱性、幾何形狀或斜率變化如何。

我們的 MRF 系統(tǒng)系列具有許多優(yōu)勢,可以消除傳統(tǒng)拋光的固有問題。

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磁流變法的優(yōu)點:

MRF 為精密光學(xué)制造帶來了精度、確定性和可重復(fù)性。

 

提供完全確定性的過程,可以表征為非常高的精度

符合復(fù)雜表面,提供拋光非球面和完全自由形狀的靈活性

由于去除率高,因此縮短了循環(huán)時間

保持工藝穩(wěn)定性

提供精密光學(xué)制造系統(tǒng),擴大設(shè)計選擇并提高成本效益

拋光球面透鏡、非球面透鏡、棱鏡、自由曲面等。

 

磁流變拋光

更快地生產(chǎn)更好的光學(xué)器件。

QED 的 MRF 計算機控制拋光系統(tǒng)可確定地產(chǎn)生更好的高精度光學(xué)器件。

 

無與倫比的準(zhǔn)確性和重復(fù)性

高精度表面 (lambda/50)

透射波前校正(窗口、相位板、一個表面上的整個系統(tǒng)校正)

光學(xué)玻璃、單晶(氟化鈣、硅……)和陶瓷

方形和矩形孔徑表面,例如棱鏡、圓柱體和光空白基板

溫和和狂野的非球面、圓柱體和自由形狀

高深寬比光學(xué)器件和基板(薄膜濾光片、標(biāo)準(zhǔn)具基板、半導(dǎo)體晶圓等)

MRF 實現(xiàn)了許多光學(xué)行業(yè)人士過去認(rèn)為不可能的事情。

拋光球形、非球面、自由形狀、圓柱形或任何其他數(shù)學(xué)定義的形狀

解決厚度均勻性(對于絕緣體上硅半導(dǎo)體晶圓應(yīng)用很重要)或光學(xué)厚度

MRF 還可以通過以下方式提高表面完整性:

消除微裂紋和地下?lián)p傷

消除殘余應(yīng)力

提高玻璃對激光損傷的抵抗力

磁流變拋光

 

磁場產(chǎn)生鐵顆粒的堅硬結(jié)構(gòu),迫使水和磨料以薄層形式到達(dá)頂部。創(chuàng)建了一個收斂間隙。形成核心,形成剪切流體層。產(chǎn)生壓力梯度并產(chǎn)生基于剪切的高速去除。

 

工件安裝在距移動的球形輪固定距離處。位于輪表面下方的電磁體在輪和工件之間的間隙中產(chǎn)生磁場。當(dāng) MR 流體輸送到砂輪時,磁場將其拉向砂輪表面,并將工件放入 MR 流體帶中,從而形成子孔徑拋光工具,也稱為“光斑”。當(dāng)工件以旋轉(zhuǎn)或光柵路徑掃過拋光區(qū)域時,復(fù)雜的計算機程序確定改變工件位置的時間表。

 

計算機數(shù)控、精密工作站和復(fù)雜的計算機算法有助于確保 MRF 拋光系統(tǒng)的自動化和穩(wěn)健性。易于使用的觸摸屏界面引導(dǎo)操作員完成自動化過程的每一步。穩(wěn)定性、可預(yù)測性和可重復(fù)性是每個 MRF 拋光周期的特征。

 

直觀且易于使用

光學(xué)表面誤差在干涉儀上得到全面表征,并傳輸至 MRF 系統(tǒng)。

用戶友好的軟件可以計算糾正表面誤差所需的最佳刀具路徑。

預(yù)運行設(shè)置通過集成模擬進行驗證。

拋光過程中實時監(jiān)控進度。

高級分析功能評估最終結(jié)果。

 

1、磁流變拋光Q22-1200

使用一臺機器即可對尺寸達(dá) 1.2 米的研磨自由曲面光學(xué)元件進行高精度拋光和精加工!

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最新的磁流變射頻技術(shù)

擴展尺寸能力

拋光孔徑尺寸可達(dá) 1200 mm

QED.NET軟件

EFMS(電子流體監(jiān)控系統(tǒng))流體控制系統(tǒng)。

技術(shù)能力

拋光最大 1200 mm x 1200 mm 的平球面、非球面、柱面和自由曲面光學(xué)器件

多部分批量拋光軟件

提供 4 種不同的軸配置

可互換的拋光頭

50 毫米 MRF 輪可以拋光細(xì)小的表面特征并減少邊緣效應(yīng)。

370 mm MRF 砂輪具有較高的材料去除率,可快速覆蓋大表面。

拋光墊可以進行預(yù)拋光或平滑處理:

可變軌道和自旋轉(zhuǎn)速

可變壓力

50 毫米和 100 毫米墊拋光頭

 圖片9.png

咨詢電話:13522079385

技術(shù)規(guī)格:

工件

最大工件尺寸*  1200毫米

最大工件重量*  400公斤(含鏡架)

最大半角     30度

工件固定方式**  機械式(真空可選)

軸***      X、Y、Z、A、B、C、Q、Zp

移動范圍***

(X)      1606毫米

(是)         1016毫米

(Z,Z素數(shù))   740毫米

(二)         B +/-32 度

(C)      C +/-35 度

(問、答)   連續(xù)或 360 度

定位精度***

(X、Y、Z)  +/- 0.0076 毫米

(乙、問)     +/- 20 角秒

(C)      +/- 10 角秒

 

2、磁流變拋光Q22-750P2

Q22-750P2 是一款大孔徑 MRF 機器,將 MRF 成形能力擴展到大型、長半徑零件。

 

3、磁流變拋光Q22-600

Q22-600 為拋光大孔徑精密光學(xué)器件提供了更多選擇。

 

4、磁流變拋光Q-FLEX 300

Q-flex 300 為任何光學(xué)車間(從原型到批量生產(chǎn))帶來了更多功能和效率。

 

5、磁流變拋光Q-FLEX 100

Q-flex 100 為任何光學(xué)車間(從原型到批量生產(chǎn))帶來了更多功能和效率。


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