英國(guó)ZEEKO拋光機(jī)售后服務(wù)
介紹：
1.ZEEKO系列光學(xué)拋光機(jī)被稱為IRP系列設(shè)備（智能自動(dòng)拋光機(jī)）。
2.此系列拋光機(jī)的尺寸從IRP 50（最大零件尺寸50mm×50mm）到IRP 3000（最大零件尺寸為3000mm×3000mm）不等。
3.在IRP 50（和其他類似機(jī)器）上可拋光的最小直徑約2.5mm（以光學(xué)設(shè)計(jì)為準(zhǔn)）。
4.拋光工具的尺寸從R540、R240、R160到最常用的R80、R40和R20不等。
5.在自適應(yīng)拋光工具中，有較小的半徑為R-10到R-2、R-1、R0.4mm（R-0.05mm將在未來(lái)引入）。
機(jī)器的產(chǎn)品特點(diǎn)：
1. 可拋光非球面和自由曲面。
2. 可拋光其他高難度的幾何形狀；如半球，超半球，Wolter 掠入射反射鏡和許多其他復(fù)雜曲面。
3. 可拋光許多不同的且難以加工的材料，如碳化物、晶體材料，低膨脹玻璃、硬質(zhì)合金、紅外材料等。
4. 新的ZephyrCAM軟件操作簡(jiǎn)單。
5. 低運(yùn)行成本。
咨詢電話：13522079385
拋光工藝：
所有的Zeeko設(shè)備都可以執(zhí)行以下工序：
1. 形狀自適應(yīng)磨削——一種類似于可延展性的研磨形式進(jìn)行拋光。
2. 氣囊拋光——經(jīng)典的Zeeko工藝。
3. 射流拋光和超聲射流拋光。
測(cè)量：
大型機(jī)器的內(nèi)置測(cè)量包括：
1. 內(nèi)置干涉儀系統(tǒng)并和Zeeko相匹配的測(cè)量塔，集成在機(jī)器上。
2. Zeeko 子孔徑成像處理拼接軟件。
3. 白光技術(shù)作為附件集成在內(nèi)，用于表面結(jié)構(gòu)分析。
4. 可在選定的機(jī)器上內(nèi)置和集成的擺動(dòng)臂輪廓測(cè)量。
5. 可在選定的機(jī)器上安裝綜合掃描五棱鏡輪廓儀。
軟件：
新Zeeko ZephyrCAM軟件具有早期版本的所有特點(diǎn)，以及便于使用的界面和能力，例如：
1. 生成用于拋光多個(gè)表面和多個(gè)側(cè)面的工具路徑。
2. 使用“特殊”Zeeko設(shè)計(jì)或“用戶設(shè)計(jì)”工具。
3. 通過(guò)繪制工具表面幾何形狀，使用不同的加工角度進(jìn)行拋光。
4. 運(yùn)行“關(guān)閉虛擬樞軸”工具。
5. 拋光有難度的幾何形狀，如半球、超半球、Wolter掠入射反射鏡和許多其他復(fù)雜表面。
6. 達(dá)到3埃以下的粗糙度。
7. 控制和消除許多中頻效應(yīng)，并從多種復(fù)雜的工具路徑中選擇來(lái)控制中頻效應(yīng)的產(chǎn)生。
8. 從多種不同的工具路徑技術(shù)中選擇限制和控制邊緣效應(yīng)。
9. 使用Zeeko“SAG”（形狀自適應(yīng)磨削）工具的范圍。 在6軸機(jī)器人和5軸加工中心上進(jìn)行預(yù)拋光。
機(jī)器型號(hào)及功能簡(jiǎn)介
1.IRP 50
IRP 50配有所有可選的拋光液循環(huán)系統(tǒng)，（蠕動(dòng)泵，低壓和高壓集成SMU）。它也可以提供所有三種不同的拋光工藝SAG（形狀自適應(yīng)磨削式拋光），經(jīng)典氣囊拋光和射流或超聲射流拋光）。它是一個(gè)非常好的量產(chǎn)型機(jī)器。
2.IRP 100
IRP 100比IRP 50機(jī)器外形尺寸更大，但具有相同的功能。它不僅是一款同樣高效的量產(chǎn)機(jī)器，也是一款可用于科研的好機(jī)器。
3.IRP 200 MKI
IRP 200 MKI是Zeeko系列機(jī)器中的經(jīng)典款機(jī)器并仍在生產(chǎn)中，企業(yè)可用于實(shí)驗(yàn)室研究和小批量多品種產(chǎn)品的生產(chǎn)。
4.IRP 200 MKII
IRP200 MKII 是在MKI基礎(chǔ)上發(fā)展而來(lái)的量產(chǎn)型機(jī)器，配有直接驅(qū)動(dòng)的A，B軸，直線電機(jī)和線性編碼器。具有使用壽命長(zhǎng)，維護(hù)成本低，高性能等特點(diǎn)。
5.IRP 400
IRP 400是“II型”虛擬樞軸機(jī)中外形尺寸最小的，因此非常適合長(zhǎng)半徑光學(xué)器件。較短半徑光學(xué)器件更適合于IRP 600和較小的IRP 200機(jī)器。
英國(guó)Zeeko氣囊拋光技術(shù)
氣囊拋光技術(shù)是英國(guó)Zeeko公司和倫敦大學(xué)光學(xué)實(shí)驗(yàn)室的Walker等人在2000年左右提出的。
下圖所示為Zeeko公司氣囊拋光機(jī)床。
其基本原理是利用多層材料(一般采用橡膠或性編織物的混合材料)壓制形成球形的氣囊基底，然后在氣囊表面粘附一層聚氨酯拋光墊，通過(guò)拋光頭的自轉(zhuǎn)和主軸的公轉(zhuǎn)，獲得近高斯形的去除函數(shù)。
氣囊拋光的優(yōu)勢(shì)在于：
1) 氣囊內(nèi)部壓力可控且可與工件表面緊密貼合，是一種可控的柔性加工方法。
2) 研拋過(guò)程中，氣囊自轉(zhuǎn)軸與工件局部表面法線成一夾角，并繞該法線做類似陀螺運(yùn)動(dòng)的進(jìn)動(dòng)運(yùn)動(dòng)，接觸區(qū)域內(nèi)速度輪廓平均，被加工表面紋理均勻且無(wú)序，有利于形成很好的表面質(zhì)量。
3) 氣囊與工件表面接觸面積連續(xù)可控，因此不需要更換不同直徑的研拋工具就能實(shí)現(xiàn)拋光的全過(guò)程加工，提高加工效率。
目前，在光刻物鏡的加工中，氣囊拋光技術(shù)已經(jīng)作為離子束拋光前期的主流加工技術(shù)。
但是，單獨(dú)應(yīng)用于米級(jí)口徑以上大型光學(xué)非球面的加工的報(bào)道較少，主要原因在于氣囊拋光的拋光斑尺寸小、材料去除率小，在加工大口徑非球面時(shí)所需的加工時(shí)間很長(zhǎng)，并且容易產(chǎn)生中高頻誤差。
因此，氣囊拋光應(yīng)用于更大口徑非球面研拋需要進(jìn)一步提高加工效率、抑制中高頻誤差同時(shí)解決好邊緣效應(yīng)問(wèn)題。
咨詢電話：13522079385
圖 (a) 氣囊拋光原理示意圖；(b) Zeeko IRP400氣囊拋光機(jī)[32]
